Perte osseuse liée à la situation de la connexion pilier-implant
PRESSE INTERNATIONALE
L’ESSENTIEL
La résorption de l’os marginal au niveau des cols d’implants s’expliquerait en partie par une infiltration bactérienne dans le hiatus de la connexion implant-pilier. Des études ont montré que si la surface d’assise du pilier est inférieure à celle de la plateforme de l’implant, il y a moins de résorption osseuse. C’est ainsi que pour réduire les effets délétères liés au hiatus, le concept platform-switching a été proposé. Un autre facteur pouvant influencer...
La résorption de l’os marginal au niveau des cols d’implants s’expliquerait en partie par une infiltration bactérienne dans le hiatus de la connexion implant-pilier. Des études ont montré que si la surface d’assise du pilier est inférieure à celle de la plateforme de l’implant, il y a moins de résorption osseuse. C’est ainsi que pour réduire les effets délétères liés au hiatus, le concept platform-switching a été proposé. Un autre facteur pouvant influencer la préservation de l’os marginal est le positionnement de l’interface implant-pilier par rapport au sommet de la crête osseuse. Il a été supposé qu’en éloignant cette interface de la crête, le risque de résorption se réduit. Le but de cette étude est d’évaluer la résorption de l’os crestal marginal autour d’implants surmontés de piliers droits ou platform-switched, dont les connexions se situent à différents niveaux par rapport à la crête osseuse.
Matériel et méthode
Cette étude porte sur 282 implants Osseotite (Biomet 3i). Des radiographies prises juste après l’implantation (début de l’étude) et 2 ans après la restauration prothétique servent à mesurer la distance entre la plateforme de l’implant et le premier contact os-implant, en mésial et en distal. Les différences entre les 2 séries de radiographies servent d’indice de résorption verticale. Les implants sont divisés en 2 groupes. L’un constitué de 193 implants porteurs de piliers droits avec une connexion intéressant toute la surface de la plateforme et l’autre comprenant 89 implants porteurs de piliers platform-switched avec une surface de connexion inférieure à celle de la plateforme. Chaque groupe est divisé en 3 sous-groupes en fonction de la situation de la connexion par rapport au niveau de l’os : supracrestale, crestale ou sous-crestale.
Résultats et discussion
Aussi bien dans le groupe des piliers droits que dans le groupe des piliers platform-switched, des différences significatives sont constatées entre les sous-groupes crestale, sous-crestale et supracrestale. Une seule différence non significative est trouvée, dans le groupe des piliers droits, entre les sous-groupes supracrestale et sous-crestale. Parmi les situations sous-crestales, la résorption est nettement moins importante dans le groupe piliers platform-switched que dans le groupe des piliers droits car la connexion implant-pilier, et donc le hiatus de l’interface infiltré par les microbes, se trouve plus éloignée de l’os marginal.
L’essentiel
Dans les limites de cette étude, les résultats indiquent que, si la connexion implant-pilier se situe au même niveau que la crête osseuse, la résorption de l’os entourant le col de l’implant est importante, que les piliers soient droits ou platform-switched. Ils montrent également que le concept platform-switching n’est bénéfique que si la connexion est sous-crestale. Plus l’interface implant-pilier est éloignée de l’os, plus la distance entre l’infiltration microbienne dans le hiatus de cette connexion et l’os crestal augmente, réduisant ainsi la résorption osseuse. Dans l’étude présente, la connexion platform-switched est obtenue par la mise en place d’un pilier de 4 mm de diamètre sur un implant plus large (5 mm de diamètre) sans aucune utilisation des systèmes de connexion implant-pilier platform-switched de marques déposées actuellement commercialisés. Outre le déplacement de la jonction implant-pilier vers le grand axe de l’implant, d’autres paramètres spécifiques (importance de la diminution de la taille du pilier, connexion externe ou interne, angulation et état de surface de la partie non recouverte de la plateforme de l’implant) peuvent avoir des répercussions sur la résorption de l’os marginal.